ホーム > NBCメッシュテック シルクスクリーン国際版画ビエンナーレ展 > 「第4回 NBCメッシュテック シルクスクリーン国際版画ビエンナーレ展」入賞者発表
「第4回NBCメッシュテック シルクスクリーン国際版画ビエンナーレ展」の
審査会が10月11日におこなわれ、大賞以下各賞が決定しました。
大賞以下各賞と招待作品、入選作品をあわせた103作品を、12月2日(月)から7日(土)まで、
美術家連盟画廊(東京・銀座)にて展示します。
【入賞作品展】
2013年12月2日(月)~7日(土)
展覧会会場 : 美術家連盟画廊 (東京都中央区銀座3-10-19)
時 間 : 午前11時より午後7時(初日は午後1時から、最終日は午後6時まで)
■大 賞 該当作品なし
■準大賞
さいとう うらら 「ghost 9090」
Dorota Nowak(ポーランド) 「Inside Spaces」
■NBCメッシュテック賞
平城 佑里子 「遠いあこがれ」
館 泰子 「process U. 13-01-05」
■優秀賞
Ana Cristina Brandao(ブラジル) 「la clef」
曽我 彩華 「雨の記憶 -3-」
長田 奈緒 「輪ゴム」
■国際展賞
Awg(アメリカ) 宮田 純子
「Cartographic Landscape V」 「光とさざなみ」
Marc Siegner(カナダ) 石橋 佑一郎
「THE CINNAMON PEELER」 「microscope -Fドーム-」
Vilma Rabello(ブラジル) Johannes Edit(ドイツ)
「Horizon Line」 「Kapellenweg」
(敬称略)